偏硅酸是什么？
偏硅酸（H₂SiO₃）是由硅、氢、氧组成的非解离成分。是化妆水中也使用的天然保湿成分，在肌肤上形成薄薄的面纱，减少沐浴后的水分流失。
日本矿泉分析法指针 第1-1表将「偏硅酸 ≥ 50mg/kg」订为疗养泉认定基准，与民间「美肌汤」标准相符。超过 100mg/kg 时保湿效果更显著。
偏硅酸在温泉中的效果
- 沐浴后的保湿效果（与化妆水相同）
- 提升肌肤表面的光滑度
- 抑制水分流失的「面纱效应」
- 不论泉质，偏硅酸高即可称为「美肌汤」
※本应用程序登录的温泉分析记录中的 Top 5
充分利用偏硅酸的入浴方法
- 出浴后不要用清水冲洗，用毛巾轻拭以保留成分。
- 入浴 10〜15 分钟为宜，分 2 次入浴效果更佳。
- 可视为「化妆水浴」，搭配平时的保养程序更具相乘效果。
参考文献
- 鉱泉分析法指針（平成26年改訂）第1-1表
- 環境省「あんしん・あんぜんな温泉利用のいろは」（平成31年3月発行）
- 環境省「温泉地の多言語化促進マニュアル」(2021年版)
相关文章
