偏硅酸是什么？
偏硅酸（H₂SiO₃）是由硅、氢、氧组成的非解离成分。是化妆水中也使用的天然保湿成分，在肌肤上形成薄薄的面纱，减少沐浴后的水分流失。
日本矿泉分析法指针 第1-1表将「偏硅酸 ≥ 50mg/kg」订为疗养泉认定基准，与民间「美肌汤」标准相符。超过 100mg/kg 时保湿效果更显著。
偏硅酸在温泉中的效果
- 沐浴后的保湿效果（与化妆水相同）偏硅酸是许多化妆水和乳霜中也含有的天然保湿成分。它能滋润肌肤，因此富含偏硅酸的温泉水就像是天然的化妆水，有助于沐浴后保持肌肤水润。
- 提升肌肤表面的光滑度偏硅酸的保湿作用有助于调理肌肤角质层，使皮肤纹理更显细腻。沐浴后，您可能会感觉肌肤触感更加柔滑，这正是偏硅酸带来的效果之一。
- 抑制水分流失的「面纱效应」偏硅酸成分会在皮肤表面形成一层肉眼看不见的薄膜，如同为肌肤覆上一层“保湿面纱”。这层薄膜能有效锁住水分，减缓出浴后皮肤水分的蒸发流失。
- 不论泉质，偏硅酸高即可称为「美肌汤」根据日本《矿泉分析法指针》，当温泉中偏硅酸含量超过 50mg/kg 时，即可被认定为疗养泉，这一标准通常也被视为“美肌之汤”的门槛。因此，即使是普通泉质，只要偏硅酸含量达标，也因其保湿美肤效果而备受青睐。
此成分含量排行
含量 Top 5
符合 50 项
※本应用程序登录的温泉分析记录中符合筛选条件的含量 Top 5
充分利用偏硅酸的入浴方法
- 出浴后不要用清水冲洗，用毛巾轻拭以保留成分。偏硅酸是天然的保湿成分，会在皮肤表面形成一层薄薄的“保湿膜”，以抑制出浴后皮肤水分的蒸发。为了充分发挥其护肤效果，出浴后请不要用清水冲洗身体。用毛巾轻轻按压吸干水分，能让温泉中的有效成分更好地留在皮肤上。
- 入浴 10〜15 分钟为宜，分 2 次入浴效果更佳。偏硅酸的保湿效果并非浸泡越久越好。建议每次入浴时间控制在 10 到 15 分钟，让皮肤充分吸收养分。将入浴分为两次，中间稍作休息，不仅能减轻身体负担，也有助于让保湿成分更有效地渗透肌肤。
- 可视为「化妆水浴」，搭配平时的保养程序更具相乘效果。偏硅酸是许多化妆水和乳霜中也含有的天然保湿成分，因此富含偏硅酸的温泉浴就像是给全身做了一次“化妆水护理”。出浴并擦干身体后，及时进行日常的保湿护肤，可以锁住温泉带来的水分，达到事半功倍的护肤效果。
参考文献
- 鉱泉分析法指針（平成26年改訂）第1-1表
- 環境省「あんしん・あんぜんな温泉利用のいろは」（平成31年3月発行）
- 環境省「温泉地の多言語化促進マニュアル」(2021年版)
- 環境省 温泉のページ
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