偏矽酸是什麼？
偏矽酸（H₂SiO₃）是由矽、氫、氧組成的非解離成分。是化妝水中也使用的天然保濕成分，在肌膚上形成薄薄的面紗，減少沐浴後的水分流失。
日本鉱泉分析法指針 第1-1表將「偏矽酸 ≥ 50mg/kg」訂為療養泉認定基準，與民間「美肌湯」標準相符。超過 100mg/kg 時保濕效果更顯著。
偏矽酸在溫泉中的效果
- 沐浴後的保濕效果（與化妝水相同）
- 提升肌膚表面的光滑度
- 抑制水分流失的「面紗效應」
- 不論泉質，偏矽酸高即可稱為「美肌湯」
※本應用程式登錄的溫泉分析記錄中的 Top 5
充分利用偏矽酸的入浴方法
- 出浴後不要用清水沖洗，用毛巾輕拭以保留成分。
- 入浴 10〜15 分鐘為宜，分 2 次入浴效果更佳。
- 可視為「化妝水浴」，搭配平時的保養程序更具相乘效果。
參考文獻
- 鉱泉分析法指針（平成26年改訂）第1-1表
- 環境省「あんしん・あんぜんな温泉利用のいろは」（平成31年3月発行）
- 環境省「温泉地の多言語化促進マニュアル」(2021年版)
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