偏矽酸是什麼？
偏矽酸（H₂SiO₃）是由矽、氫、氧組成的非解離成分。是化妝水中也使用的天然保濕成分，在肌膚上形成薄薄的面紗，減少沐浴後的水分流失。
日本鉱泉分析法指針 第1-1表將「偏矽酸 ≥ 50mg/kg」訂為療養泉認定基準，與民間「美肌湯」標準相符。超過 100mg/kg 時保濕效果更顯著。
偏矽酸在溫泉中的效果
- 沐浴後的保濕效果（與化妝水相同）偏矽酸是許多化妝水及乳霜中也含有的天然保濕成分。它能為肌膚補充水分，有助於維持沐浴後的皮膚水潤感，其作用原理與日常保養品相似。
- 提升肌膚表面的光滑度偏矽酸的保濕作用能夠滋潤皮膚角質層。當肌膚充滿水分時，角質排列會變得更加平滑細緻，觸感也因此獲得改善，讓皮膚摸起來更為滑順。
- 抑制水分流失的「面紗效應」偏矽酸會在皮膚表面形成一層薄薄的保護膜，就像為肌膚蓋上一層隱形面紗。這層保護膜能有效減緩沐浴後皮膚水分的蒸發，將滋潤感鎖在肌膚裡。
- 不論泉質，偏矽酸高即可稱為「美肌湯」根據日本環境省的「礦泉分析法指針」，只要偏矽酸含量達到每公斤 50 毫克以上，即符合「美肌之湯」的其中一項標準。因此，無論泉質種類為何，只要符合此標準，通常就會被稱為「美肌之湯」。
此成分含量排行
含量 Top 5
符合 50 件
※本應用程式登錄的溫泉分析記錄中符合篩選條件的含量 Top 5
充分利用偏矽酸的入浴方法
- 出浴後不要用清水沖洗，用毛巾輕拭以保留成分。偏矽酸是天然的保濕成分，會在肌膚表面形成一層薄膜，有助於鎖住水分。為了讓這個「保濕膜」發揮最大效果，出浴後請避免用清水沖洗身體，建議直接用毛巾輕輕按壓，將多餘水分吸乾即可。
- 入浴 10〜15 分鐘為宜，分 2 次入浴效果更佳。為了讓偏矽酸的保濕成分充分作用於肌膚，建議每次入浴時間控制在 10 至 15 分鐘。將單次長時間的浸泡改為兩次短時間的入浴，不僅能提升保濕效果，也能避免對身體造成過度負擔，讓美肌體驗更舒適。
- 可視為「化妝水浴」，搭配平時的保養程序更具相乘效果。偏矽酸是許多化妝水與乳霜中也會使用的天然保濕成分，因此富含此成分的溫泉可謂「天然化妝水浴」。泡湯後的肌膚已充分濕潤，此時接續日常的保濕程序，更能將溫泉的美肌成分與水分牢牢鎖住，達到加乘效果。
參考文獻
- 鉱泉分析法指針（平成26年改訂）第1-1表
- 環境省「あんしん・あんぜんな温泉利用のいろは」（平成31年3月発行）
- 環境省「温泉地の多言語化促進マニュアル」(2021年版)
- 環境省 温泉のページ
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